Lithographie optique (DUV)
• Haut rendement de production
• Résolution nanométrique
• Compatible avec grands wafers (200-300 mm)
• Technologie mature et largement adoptée
• Supportée par une large base industrielle
Applications:
CMOS, capteurs d’image, mémoires DRAM, composants logiques avancés.
Description Solution:
La lithographie optique DUV est la technologie standard de l’industrie pour la fabrication de circuits intégrés. Elle utilise des sources lumineuses profondes ultraviolettes (248 nm, 193 nm) pour transférer des motifs sur des wafers de silicium. Cette méthode combine haute précision et haut rendement, indispensable pour la production de masse en microélectronique. Elle constitue la colonne vertébrale de la fabrication des semi-conducteurs avancés.
Spécifications:
Résolution: 65–130 nm
Source: KrF (248 nm), ArF (193 nm)
Wafers: 200–300 mm
Débit: >100 wafers/heure.