Lithographie par faisceau d’électrons (EBL)

L’EBL est une technique de lithographie directe utilisant un faisceau d’électrons focalisé pour écrire des motifs sur une résine. Elle permet d’atteindre des résolutions sub‑10 nm, idéales pour la recherche et le prototypage. Bien que lente et coûteuse pour la production de masse, elle est incontournable pour la nano‑fabrication et les dispositifs de pointe. Elle est largement utilisée dans les laboratoires et centres de recherche en nanotechnologies.