Nanoimprint Lithography (NIL)
• Procédé simple et économique
• Haute fidélité de réplication
• Compatible avec substrats variés
• Applications hors CMOS
• Faible consommation énergétique
Applications:
Photonique, optoélectronique, nano‑optiques, biocapteurs.
Description Solution:
La NIL est une technique de lithographie basée sur le moulage physique d’un motif nanométrique dans une résine polymère. Elle permet de reproduire des structures avec une grande fidélité et à faible coût. Elle est particulièrement adaptée aux applications en photonique, optoélectronique et nanostructures fonctionnelles. Bien qu’encore émergente, elle est considérée comme une alternative prometteuse aux méthodes optiques.
Spécifications:
Résolution: <20 nm
Substrats: verre, silicium, polymères
Débit: élevé en réplication parallèle.