Gravure humide chimique
• Procédé simple et peu coûteux
• Taux de gravure rapides
• Adaptée aux grandes surfaces
• Large choix de réactifs chimiques
• Utile pour R&D et nettoyage
Applications:
Préparation substrats, nettoyage, gravure sélective, applications R&D.
Description Solution:
La gravure humide repose sur l’utilisation de solutions chimiques liquides pour dissoudre sélectivement certains matériaux. Bien que moins précise que la gravure plasma, elle reste simple, économique et adaptée pour certaines applications. Elle permet de traiter de grandes surfaces et offre des taux de gravure rapides. Elle est particulièrement utilisée dans la R&D, le nettoyage et la préparation de substrats.
Spécifications:
Résolution: >100 nm
Taux: 10–100 nm/min
Uniformité: ±5 %
Substrats: silicium, oxydes, métaux.