Système de distribution de slurries (Slurry Delivery System)
• Distribution homogène
• Stabilité chimique
• Réduction défauts procédés
• Automatisation intégrée
• Fiabilité élevée
Applications:
CMP cuivre, diélectriques, multi‑matériaux.
Description Solution:
Ces systèmes assurent le stockage, la distribution et le mélange homogène des boues abrasives (slurries). Ils garantissent la stabilité chimique et la qualité du processus CMP. Ils sont essentiels pour la répétabilité et la productivité. Utilisés en conjonction avec toutes les polisseuses CMP modernes.
Spécifications:
Capacité: 50–500 L
Matériaux: anti‑corrosifs
Contrôle: débit, pH, température.