Four de diffusion horizontale

• Traitement en lots
• Coût de production réduit
• Grande homogénéité
• Simplicité de mise en œuvre
• Compatible avec divers matériaux

Applications:

Dispositifs matures, MEMS, optoélectronique, photovoltaïque.

Description Solution:

Les fours de diffusion horizontaux sont utilisés pour le dopage et l’oxydation thermique sur plusieurs wafers simultanément. Ils offrent une grande capacité de traitement en lots, réduisant les coûts de production. Bien qu’ils soient moins utilisés pour les nœuds les plus avancés, ils restent courants pour la production mature. Ils sont idéals pour les applications nécessitant une homogénéité et une grande stabilité.

Spécifications:

Température: jusqu’à 1100°C
Capacité: 50–200 wafers
Wafers: 100–200 mm
Atmosphères: O₂, N₂, vapeur.

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