Nettoyage chimique avancé (RCA, SC‑1/SC‑2)
• Standard industriel universel
• Propreté atomique
• Complémentaire aux nettoyages secs
• Compatibilité forte avec CMOS
• Réduction maximale contamination
Applications:
Préparation CMOS, R&D, semi‑conducteurs avancés.
Description Solution:
Les protocoles RCA (SC‑1 et SC‑2) sont des standards industriels pour le nettoyage des wafers silicium. SC‑1 élimine les particules et résidus organiques, tandis que SC‑2 élimine les métaux. Ces étapes assurent une propreté optimale pour les procédés critiques. Elles sont généralement intégrées dans les wet benches automatisés.
Spécifications:
SC‑1: NH₄OH/H₂O₂/H₂O
SC‑2: HCl/H₂O₂/H₂O
Wafers: 100–300 mm.