Spectroscopie ellipsométrique
• Mesure non destructive
• Épaisseur sub-nm à plusieurs µm
• Caractérisation optique
• Compatible dépôts multi-couches
• Haute précision et rapidité
Applications:
Contrôle couches minces, photovoltaïque, optoélectronique.
Description Solution:
L’ellipsométrie mesure l’épaisseur et les propriétés optiques de couches minces. Elle est essentielle pour contrôler les dépôts CVD, PVD et ALD. Technique non destructive, elle est utilisée à la fois en R&D et en production. Les systèmes avancés permettent l’analyse spectrale et l’imagerie cartographique.
Spécifications:
Plage épaisseur: 0,1–5000 nm
Wafers: jusqu’à 300 mm
Résolution: <0,1 nm.