Description Solution:
Le TMAH (hydroxyde de tétraméthylammonium) est le développeur le plus utilisé en lithographie. Il dissout les zones exposées des résines positives et offre un excellent contrôle de profil. Disponible en différentes concentrations, il permet d’adapter le processus aux besoins de résolution. Il est largement adopté dans l’industrie pour les procédés DUV et MEMS.
Spécifications:
Concentration : 2,38 % – 3 % ; Pureté : électronique ; État : solution aqueuse.