Masques photolithographiques (Reticles)
• Haute précision dimensionnelle
• Résolution nanométrique
• Compatibles procédés DUV et EUV
• Essentiels pour circuits intégrés avancés
• Fiabilité éprouvée
Applications:
Circuits intégrés, mémoire, logique avancée.
Description Solution:
Les masques (reticles) contiennent les motifs à transférer sur les wafers lors des étapes de lithographie. Ils sont fabriqués sur des plaques de quartz recouvertes de chrome. La précision du masque détermine directement la résolution et la qualité du circuit final. Ils sont produits avec des technologies de gravure électronique avancées.
Spécifications:
Substrat : quartz ; Résolution : jusqu’à 20 nm ; Taille : 6 pouces (standard).