Nanoimprint Lithography (NIL)
La NIL est une technique de lithographie basée sur le moulage physique d’un motif nanométrique dans une résine polymère. Elle permet de reproduire des structures avec une grande fidélité et…
Équipements de lithographie
Lithographie par rayons X
La lithographie X utilise des rayonnements X doux pour transférer des motifs avec une résolution nanométrique. Elle permet une excellente profondeur de champ et une bonne pénétration à travers les…
Spin Coater pour lithographie
Le spin coater est utilisé pour déposer uniformément des couches minces de résine photosensible ou autres solutions liquides sur des wafers. Grâce à la force centrifuge, il assure un film…
Lithographie optique (DUV)
La lithographie optique DUV est la technologie standard de l’industrie pour la fabrication de circuits intégrés. Elle utilise des sources lumineuses profondes ultraviolettes (248 nm, 193 nm) pour transférer des…
Lithographie EUV (Extreme Ultraviolet)
La lithographie EUV utilise une longueur d’onde extrême ultraviolet (13,5 nm) pour atteindre des résolutions inférieures à 10 nm. Elle est aujourd’hui la technologie clé pour la fabrication des nœuds…
Lithographie par faisceau d’électrons (EBL)
L’EBL est une technique de lithographie directe utilisant un faisceau d’électrons focalisé pour écrire des motifs sur une résine. Elle permet d’atteindre des résolutions sub‑10 nm, idéales pour la recherche…