Gaz de gravure plasma – Chlore (Cl₂)
Le chlore est utilisé pour la gravure plasma des matériaux métalliques tels que l’aluminium et le titane. Il permet une gravure anisotrope avec un excellent contrôle de profil. Il est…
Électrodes et liners de chambre pour RIE/ICP
Les électrodes et liners de chambre sont des consommables critiques pour les systèmes de gravure plasma. Ils assurent la stabilité du plasma et la protection des parois de la chambre.…
Fenêtres optiques et capteurs d’endpoint
Les fenêtres optiques et capteurs d’endpoint sont utilisés pour surveiller en temps réel la gravure plasma. Ils permettent de détecter la fin de gravure par analyse spectroscopique. Ces consommables améliorent…
Gaz de gravure plasma – Hexafluorure de soufre (SF₆)
Le SF₆ est largement utilisé dans les procédés de gravure plasma pour les matériaux à base de silicium. Sa réactivité élevée permet un taux de gravure rapide et uniforme. Il…
Gaz de gravure plasma – Tétrafluorométhane (CF₄)
Le CF₄ est un gaz fluoré utilisé pour la gravure du dioxyde de silicium et des couches diélectriques. Il offre une bonne sélectivité vis-à-vis du silicium. Couramment utilisé dans les…