Résine photosensible positive
Les résines photosensibles positives sont utilisées en lithographie pour transférer des motifs sur les wafers. Elles deviennent solubles dans le développeur après exposition à la lumière. Ces résines permettent une…
Résine photosensible négative
Les résines négatives sont utilisées pour définir des motifs inversés lors de la lithographie. Elles deviennent insolubles après exposition à la lumière, permettant la création de structures robustes. Ces résines…
Développeur TMAH
Le TMAH (hydroxyde de tétraméthylammonium) est le développeur le plus utilisé en lithographie. Il dissout les zones exposées des résines positives et offre un excellent contrôle de profil. Disponible en…
Masques photolithographiques (Reticles)
Les masques (reticles) contiennent les motifs à transférer sur les wafers lors des étapes de lithographie. Ils sont fabriqués sur des plaques de quartz recouvertes de chrome. La précision du…
Pellicules de protection de masques (Pellicles)
Les pellicules protègent la surface des masques de la contamination particulaire. Elles sont constituées de membranes transparentes tendues sur un cadre. Elles permettent d’éviter les défauts critiques lors de l’exposition.…