Four vertical haute température
• Uniformité thermique supérieure
• Capacité de lots élevée
• Contrôle précis
• Compatible avec procédés avancés
• Longue durée de vie
Applications:
CMOS, mémoire, semi‑conducteurs de puissance, photovoltaïque.
Description Solution:
Les fours verticaux offrent une meilleure uniformité et un contrôle thermique accru par rapport aux fours horizontaux. Ils sont utilisés pour l’oxydation, la diffusion et les dépôts thermiques. Ils permettent de traiter un grand nombre de wafers simultanément tout en maintenant une excellente homogénéité. Ils sont largement utilisés dans la fabrication en volume.
Spécifications:
Température: jusqu’à 1250°C
Capacité: 100–150 wafers
Wafers: 200–300 mm
Atmosphères: O₂, N₂, H₂O.