Gaz de gravure plasma – Chlore (Cl₂)
• Gravure efficace des métaux
• Profil anisotrope
• Compatible procédés combinés
• Large adoption pour Al, Ti
• Haute réactivité chimique
Applications:
Gravure de l’aluminium, titane, circuits intégrés.
Description Solution:
Le chlore est utilisé pour la gravure plasma des matériaux métalliques tels que l’aluminium et le titane. Il permet une gravure anisotrope avec un excellent contrôle de profil. Il est souvent combiné avec d’autres gaz pour ajuster la sélectivité. Gaz corrosif, il nécessite un système de confinement et de sécurité renforcé.
Spécifications:
Formule : Cl₂ ; Pureté : 99,999 % ; État : gaz comprimé ; Conditionnement : bouteilles pressurisées.