Gravure par faisceau focalisé (FIB – Focused Ion Beam)
• Précision nanométrique locale
• Idéal pour prototypage rapide
• Utilisé en Failure Analysis
• Compatible avec nombreux matériaux
• Applications flexibles en R&D
Applications:
FA (Failure Analysis), prototypage rapide, réparation de circuits.
Description Solution:
Le FIB repose sur un faisceau d’ions focalisé permettant de sculpter localement la surface d’un substrat avec une précision nanométrique. C’est un outil de choix pour la modification, l’analyse et la réparation de circuits intégrés. Bien que limité en vitesse et en surface traitée, il est incontournable pour le prototypage rapide et les investigations de défaillances. Il est très utilisé dans les laboratoires de recherche et les services de FA (Failure Analysis).
Spécifications:
Résolution: <20 nm
Surface: locale (µm²‑mm²)
Substrats: divers
Gaz: Xe, Ga.