Lithographie Optique NanoPrint-L800
Le NanoPrint-L800 est un système de lithographie optique avancée destiné à la fabrication de semi-conducteurs et de microstructures. Basé sur une technologie de projection à haute résolution, il permet de transférer avec une précision nanométrique des motifs complexes sur des tranches de silicium ou d’autres substrats. Grâce à son système d’alignement automatisé, sa source lumineuse haute puissance et ses logiciels de contrôle intelligents, il garantit une productivité élevée et une qualité de gravure exceptionnelle pour les procédés de fabrication de circuits intégrés.
| Caractéristique | Valeur |
|---|---|
| Technologie | Lithographie optique par projection |
| Source lumineuse | Excimer Laser KrF (248 nm) / ArF (193 nm) |
| Résolution minimale | 45 nm (avec techniques de RET) |
| Taille maximale des wafers | 300 mm (12 pouces) |
| Profondeur de champ | ± 0,5 µm |
| Vitesse de traitement | Jusqu’à 200 wafers/heure |
| Précision d’alignement | ± 5 nm |
| Système d’alignement | Interférométrie laser multi-axes |
| Interface de contrôle | Logiciel automatisé avec IA de correction |
| Dimensions de la machine | 2,5 m × 3,0 m × 2,8 m |
| Environnement requis | Salle blanche classe ISO 5 |