Lithographie par rayons X
• Résolution nanométrique
• Profondeur de champ élevée
• Bonne pénétration dans les résines
• Applications spécialisées
• Adaptée à la recherche
Applications:
Fabrication de masques, nanostructures spécialisées, photonique avancée.
Description Solution:
La lithographie X utilise des rayonnements X doux pour transférer des motifs avec une résolution nanométrique. Elle permet une excellente profondeur de champ et une bonne pénétration à travers les résines. Bien qu’elle soit coûteuse et moins utilisée en production de masse, elle reste intéressante pour certaines applications spécialisées. Elle est principalement employée en recherche et pour la fabrication de masques de haute précision.
Spécifications:
Résolution: ~20 nm
Source: synchrotron ou X‑ray spécifique
Substrats: silicium, quartz
Débit: faible.