Nettoyage cryogénique (CO₂ Snow Cleaning)

Cette technique consiste à projeter des particules de glace carbonique (neige de CO₂) à haute vitesse sur la surface du wafer. Elle permet d’éliminer efficacement les particules sans chimie liquide. C’est une méthode respectueuse de l’environnement et adaptée aux substrats sensibles. Elle est utilisée dans les applications R&D et certaines lignes de production spécialisées.