Traitement par lampe halogène (Flash Anneal)
• Chauffage milliseconde
• Simple et efficace
• Activation rapide des dopants
• Limite la diffusion
• Adaptée aux procédés sensibles
Applications:
CMOS avancés, R&D, semi‑conducteurs spécialisés.
Description Solution:
Le recuit flash utilise des lampes halogènes puissantes pour chauffer le wafer en quelques millisecondes. Cette approche combine les avantages du recuit rapide et du laser, tout en étant plus simple à mettre en œuvre. Elle est adaptée aux procédés nécessitant une montée en température très brève mais intense. Elle constitue une alternative efficace pour les applications avancées.
Spécifications:
Température: 1000–1200°C
Durée: 0,5–20 ms
Wafers: 200–300 mm
Atmosphères: N₂, Ar.